Thẻ: metal thin films semiconductor
Thin Film Deposition – Công nghệ lắng đọng màng mỏng trong chế tạo bán dẫn hiện đại
Phần 4: Thin Film Deposition
Trình bày các công nghệ lắng đọng màng mỏng như CVD, ALD, PVD và epitaxy, phục vụ hình thành các lớp vật liệu chức năng trong thiết bị bán dẫn.
05/01/2026
Blogs Đo lường, Kinh nghiệm hiện trường, Phòng lab & Nhà máy, Tin tức & Xu hướng công nghệ
ALD semiconductor, atomic layer deposition, chemical vapor deposition, compound semiconductor epitaxy, CVD semiconductor, dielectric thin films, epitaxial thin films, metal thin films semiconductor, polysilicon thin films, PVD semiconductor, semiconductor fabrication process, semiconductor thin films, silicon epitaxy, thin film deposition, thin film deposition technology
Recent Posts
- Tất tần tật những điều cần biết về Fiber
- Vì sao Việt Nam bắt đầu từ 32nm – và chip 3nm thực sự dùng để làm gì?
- Newport 1938-R/2938-R vs 1940-R/2940-R – So sánh benchtop Optical Power & Energy Meter và cách chọn đúng hệ đo (detector + phụ kiện) theo ứng dụng
- Chemical Mechanical Planarization (CMP) – Công nghệ làm phẳng bề mặt trong chế tạo bán dẫn
- Dopant Diffusion và Ion Implantation – Kiểm soát tính chất điện trong chế tạo bán dẫn

