Thẻ: VLSI etching technology
Etching – Công nghệ khắc tạo hình trong chế tạo bán dẫn hiện đại
Phần 6: Etching
Phân tích các kỹ thuật khắc vật liệu để chuyển pattern từ lithography vào các lớp màng, bao gồm wet etching và plasma-based dry etching
07/01/2026
Blogs Đo lường, Kinh nghiệm hiện trường, Phòng lab & Nhà máy, Tin tức & Xu hướng công nghệ
dry etching semiconductor, etching process semiconductor, isotropic vs anisotropic etching, MKS etching solutions, plasma chemistry etching, plasma etching, reactive ion etching, RIE process, semiconductor etching, semiconductor fabrication etch, vacuum etching system, VLSI etching technology, wafer pattern transfer, wet etching semiconductor
Recent Posts
- Tất tần tật những điều cần biết về Fiber
- Vì sao Việt Nam bắt đầu từ 32nm – và chip 3nm thực sự dùng để làm gì?
- Newport 1938-R/2938-R vs 1940-R/2940-R – So sánh benchtop Optical Power & Energy Meter và cách chọn đúng hệ đo (detector + phụ kiện) theo ứng dụng
- Chemical Mechanical Planarization (CMP) – Công nghệ làm phẳng bề mặt trong chế tạo bán dẫn
- Dopant Diffusion và Ion Implantation – Kiểm soát tính chất điện trong chế tạo bán dẫn

