Thẻ: wafer planarization
Chemical Mechanical Planarization (CMP) – Công nghệ làm phẳng bề mặt trong chế tạo bán dẫn
Phần 8: Chemical Mechanical Planarization (CMP)
Giới thiệu công nghệ làm phẳng bề mặt wafer, yếu tố then chốt cho tích hợp đa lớp và cấu trúc bán dẫn 2.5D/3D.
08/01/2026
Blogs Đo lường, Kinh nghiệm hiện trường, Phòng lab & Nhà máy, Tin tức & Xu hướng công nghệ
chemical mechanical planarization, CMP process, CMP semiconductor, CMP tool components, conformal film coverage, copper interconnect CMP, damascene process CMP, MKS CMP solutions, multilevel metallization, polishing slurry semiconductor, semiconductor manufacturing process, semiconductor planarization technology, STI CMP, wafer planarization, wafer surface flatness
Recent Posts
- Tất tần tật những điều cần biết về Fiber
- Vì sao Việt Nam bắt đầu từ 32nm – và chip 3nm thực sự dùng để làm gì?
- Newport 1938-R/2938-R vs 1940-R/2940-R – So sánh benchtop Optical Power & Energy Meter và cách chọn đúng hệ đo (detector + phụ kiện) theo ứng dụng
- Chemical Mechanical Planarization (CMP) – Công nghệ làm phẳng bề mặt trong chế tạo bán dẫn
- Dopant Diffusion và Ion Implantation – Kiểm soát tính chất điện trong chế tạo bán dẫn

